"Mina Sato,Mie Tohnishi,Akihiro Matsutani","Microfabrication of Si by KOH Etchant Using Etching Masks Amorphized by Ion Beam Extracted From Electron Cyclotron Plasma",,"Sensors and Materials",,"Vol. 36","No. 4","pp. 1319-1328",2024,Apr.
"佐藤美那,遠西美重,松谷晃宏","イオンビーム照射によりアモルファス化したSi表面のXRR測定","第71回応用物理学会春季学術講演会",,,,,,2024,Mar.
"松谷晃宏,遠西美重,吉田 桜子","OsコーティングによるSU-8膜の梁構造の機械的強度の向上","2024年第71回応用物理学会春季学術講演会",,,,,"  23p-P05-36",2024,Mar.
"遠西美重,松下祥子,松谷晃宏","Deep-RIEで作製したブラックGeの微細構造側壁のスキャロップ深さと反射率との関係","第71回応用物理学会春季学術講演会",,,,,,2024,Mar.
"Mie Tohnishi,Sachiko Matsushita,Akihiro Matsutani","Fabrication of nonreflective black germanium in near-infrared region up to a wavelength of 2.5 ?m by SF6+O2/C4F8-plasma-based deep reactive ion etching","2023 International Symposium on Dry Process (DPS 2023)","Proceedings of International Symposium on Dry Process",,,,,2023,Nov.
"遠西美重,松谷晃宏,松下祥子","Deep-RIE により作製したブラックGe 微細構造側壁のEDX 分析","2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会",,,,,"  20p-P07-15",2023,Sept.
"松谷晃宏,遠西美重","デジタルカメラと回折格子によるSi のDeep-RIE プラズマの発光分光測定と EDX による高アスペクト比（HAR）エッチング側壁の分析の比較","2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会",,,,,"  20p-P07-16",2023,Sept.
"遠西 美重,松谷晃宏,生方 俊,松下祥子","固体ソースH?Oプラズマ処理したポリイミド樹脂の表面のXPS分析","2023年第70回応用物理学会春季学術講演会",,,,,,2023,Mar.
"佐藤 美那,遠西美重,松谷晃宏","Ar+ビーム照射により作製したKOHエッチング用SiマスクのXPS解析","2023年第70回応用物理学会春季学術講演会",,,,,,2023,Mar.
"Mie Tohnishi,Mina Sato,Akihiro Matsutani,Takashi Ubukata,Sachiko Matsushita","Surface Treatment of Polyimide using Solid-source H2O Plasma for Fabrication of Ge Electrode",,"Sensors and Materials",,"Vol. 35","No. 3","pp. 1023-1033",2023,Mar.
"Ryo Tsukui,Masaru Kino,Kodai Yamamoto,Mina Sato,Mie Tohnishi,Akihiro Matsutani,Mikio Kurita","Laboratory demonstration of the birefrigent point-diffraction interferometer wavefront sensor",,"Optics Continuum",,"Vol. 2",,"pp. 382-396",2023,Jan.
"松谷晃宏,遠西美重,藤本美穂,松下祥子","ポジ型電子線レジストSML1000をマスクとして用いたSF6-RIEによるGeのドライエッチング","2022年第83回応用物理学会秋季学術講演会",,,,,"  20a-P01-5",2022,Sept.
"佐藤美那,遠西美重,松谷晃宏","Ar＋ビーム照射によるSiアモルファスマスクを利用したKOHエッチングによる単一細胞分離プレートとマイクロ流路の作製","第69回 応用物理学会 春季学術講演会",,,,,,2022,Mar.
"遠西 美重,佐藤美那,松下祥子,松谷晃宏","ポリイミドシート上へスパッタ成膜したCr/Ge電極の固体ソースH?Oプラズマを用いた前処理による低抵抗化","第69回応用物理学会春季学術講演会",,,,,,2022,Mar.
"Mina Sato,Mie Tohnishi,Akihiro Matsutani","Microfabrication of Si by KOH Etchant Using Etching Mask Amorphized by Ar Ion Beam",,"Sensors and Materials",,"Vol. 34","No. 1",,2022,Jan.
"佐藤美那,遠西美重,松谷晃宏","エッチングマスクとしてAr+イオンビームを照射した 微細マスクパターンを用いたKOH エッチングによるSi の微細加工","第82回 応用物理学会 秋季学術講演会",,,,,,2021,Sept.
"遠西 美重,佐藤美那,松下祥子,松谷晃宏","固体ソースH?O プラズマを用いて表面処理したポリイミドテープ上のCr/Cu電極の折り曲げ耐久性","第82回応用物理学会秋季学術講演会",,,,,,2021,Sept.
"遠西 美重,松谷 晃宏","固体ソースH?O プラズマ処理したポジ型フォトレジストの表面粗さの観察","第68回応用物理学会春季学術講演会",,,,,"  16a-P04-6",2021,Mar.
"Mie Tohnishi,Akihiro Matsutani","Surface Treatment of Polydimethylsiloxane and Glass Using Solid-source H2O Plasma for Fabrication of Microfluidic Devices",,"Sensors and Materials","MYU.K.K","Vol. 33","No. 2","pp. 569-574",2021,Feb.
"遠西 美重,松谷 晃宏","固体ソースH?O プラズマ処理によるガラスとPDMSの接合表面処理","2020年度機器・分析技術研究会",,,,,"  P-31",2020,Sept.
"遠西 美重,松谷 晃宏","固体ソースH?O プラズマ処理によるPDMS とガラスの接合","第67回応用物理学会春季学術講演会",,,,,"  13a-PA1-14",2020,Mar.
"遠西 美重","PDMSとガラスの酸素プラズマ処理による接合","技術研究会2020",,,,,"  P-3-08",2020,Mar.
"松谷晃宏,佐藤美那,遠西美重,藤本 美穂,平野 明子,西沢望,進士忠彦,初澤毅","東京工業大学におけるクリーンルーム統合共用化による 組織的研究支援の推進","研究・イノベーション学会第34回年次学術大会","研究・イノベーション学会第34回年次学術大会講演要旨集",,,,"pp. 245-248",2019,Oct.