@inproceedings{CTT100693281,
  author = {田中敦 and 宇津木貴太 and 西山昭雄 and 脇谷尚樹 and 塩田忠 and 櫻井修 and 篠崎和夫},
  title = {Al(CH3)3を原料とするMOCVD法によるα−Al2O3薄膜の製膜条件の最適化},
  booktitle = {日本セラミックス協会2014年年会講演予稿集},
  year = 2015,
}

@inproceedings{CTT100693283,
  author = {宇津木貴太 and 田中敦 and 西山昭雄 and 塩田忠 and 櫻井修 and 篠崎和夫 and 脇谷尚樹},
  title = {PLD 法を用いたCr2O3シード層の製膜と MOCVD 法によるAl2O3薄膜の結晶化への影響},
  booktitle = {日本セラミックス協会第30回関東支部研究発表会講演予稿集},
  year = 2014,
}

@inproceedings{CTT100664718,
  author = {田中 敦 and 宇津木貴太 and 石崎超矢 and 西山昭雄 and 塩田 忠 and 櫻井 修 and 篠崎和夫 and 脇谷尚樹},
  title = {Al(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>を原料とするMOCVD法によるAl<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜の製膜過程},
  booktitle = {日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会予稿集},
  year = 2013,
}