@inproceedings{CTT100910842,
  author = {中山  創 and 吉川  浩太 and Lee Koomok and 安井 学 and 金子 智 and 黒内 正仁 and 重松 圭 and 東 正樹},
  title = {電子線描画HSQをマスクに用いたBiFe<sub>0.9</sub>Co<sub>0.1</sub>O<sub>3</sub>ナノドットの作製},
  booktitle = {},
  year = 2024,
}

@misc{CTT100940217,
  author = {東正樹 and 重松圭 and 吉川　浩太 and 中山創 and 金子　智　 and 安井　学 and 黒内　正仁},
  title = {複合酸化物パターンの形成方法},
  howpublished = {公開特許},
  year = 2025,
  month  = {},
  note   = {PCT/JP2025/007415(2025/03/03), WO 2025/187606(2025/09/11)}
}


@misc{CTT100940184,
  author = {東正樹 and 重松圭 and 吉川　浩太 and 中山創 and 金子　智 and 安井　学 and 黒内　正仁},
  title = {複合酸化物パターンの形成方法},
  howpublished = {公開特許},
  year = 2025,
  month  = {},
  note   = {特願2024-032250(2024/03/04), 特開2025-134377(2025/09/17)}
}