@inproceedings{CTT100679730,
  author = {Lin and A. Tanaka and N. Ishizaki and A. Nishiyama and N. Wakiya and J. S. Cross and T. Shiota and O. Sakurai and K. Shinozaki},
  title = {Optimization of Deposition Conditions of a-Al2O3 Thin Films by Low Pressure MOCVD Using Al(CH3)3},
  booktitle = {Abstract book of The 8th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics (STAC-8)},
  year = 2014,
}

@inproceedings{CTT100664718,
  author = {田中 敦 and 宇津木貴太 and 石崎超矢 and 西山昭雄 and 塩田 忠 and 櫻井 修 and 篠崎和夫 and 脇谷尚樹},
  title = {Al(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>を原料とするMOCVD法によるAl<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜の製膜過程},
  booktitle = {日本セラミックス協会第29回関東支部研究発表会予稿集},
  year = 2013,
}

@inproceedings{CTT100673590,
  author = {石崎超矢 and 田中 敦 and 西山昭雄 and 塩田 忠 and 櫻井 修 and 篠崎和夫 and 脇谷尚樹},
  title = {MOCVD法によるSi基板上へのアルミナ薄膜の形成},
  booktitle = {日本セラミックス協会第32回エレクトロセラミックス研究討論会講演予稿集},
  year = 2012,
}