@inproceedings{CTT100790647,
  author = {大賀 友瑛 and 岩佐 健 and 山田 志織 and 金子 智 and 松田 晃史 and 吉本 護},
  title = {酸化物半導体薄膜の成長および特性に及ぼすポリマー基板表面における原子レベルパターンの影響},
  booktitle = {},
  year = 2019,
}

@inproceedings{CTT100790648,
  author = {中西 昴 and 岩佐 健 and 金子 智 and 木村 好里 and 松田 晃史 and 吉本 護},
  title = {酸化バナジウム系非晶質薄膜の一軸加圧下熱処理と電気特性評価},
  booktitle = {},
  year = 2019,
}

@inproceedings{CTT100771925,
  author = {岩佐 健 and 大賀 友瑛 and 土嶺信男 and 金子 智 and 松田 晃史 and 吉本 護},
  title = {周期的ナノパターン表面を有するポリマー基板上への酸化物半導体薄膜の作製と電気特性評価},
  booktitle = {},
  year = 2018,
}

@inproceedings{CTT100771924,
  author = {山田 志織 and 岩佐 健 and 大賀 友瑛 and 金子 智 and 松田 晃史 and 吉本 護},
  title = {0.3 nm高さの直線状原子ステップを有するPMMA及びポリイミドシートにおける光化学反応および成膜による表面特性の制御},
  booktitle = {},
  year = 2018,
}

@inproceedings{CTT100771929,
  author = {中西 昴 and 岩佐 健 and 金子 智 and 木村 好里 and 松田 晃史 and 吉本 護},
  title = {PLD法による酸化バナジウム系アモルファス薄膜の作製と熱電特性評価},
  booktitle = {},
  year = 2018,
}

@inproceedings{CTT100771920,
  author = {岩佐健 and 木下太一郎 and 中村稀星 and 金子 智 and 松田 晃史 and 吉本 護},
  title = {原子ステップ型超平坦ポリマー基板上でのフレキシブル酸化物p/n薄膜の作製と特性評価},
  booktitle = {},
  year = 2018,
}

@inproceedings{CTT100752506,
  author = {木下 太一郎 and 岩佐 健 and 金子 智 and 松田 晃史 and 吉本 護},
  title = {原子ステップ型ポリマー基板上への自己組織化モールドを用いた周期的ナノ構造の熱ナノインプリント形成},
  booktitle = {},
  year = 2017,
}

@inproceedings{CTT100752505,
  author = {岩佐 健 and 木下 太一郎 and 中村 稀星 and 金子 智 and 松田 晃史 and 吉本 護},
  title = {原子ステップ型ポリマー基板を用いた有機・無機ハイブリッド構造の作製},
  booktitle = {},
  year = 2017,
}