@inproceedings{CTT100608341,
  author = {佐野貴洋 and 大見俊一郎},
  title = {ECRスパッタ法により形成したHfN/HfSiON/Si(100)ゲートスタック構造の評価},
  booktitle = {春季第５７回応用物理学関係連合講演会予稿集},
  year = 2010,
}

@inproceedings{CTT100608342,
  author = {Han Hui-Seong and Takahiro Sano and Young uk Song and Shun-ichiro Ohmi},
  title = {Electrical Properties of Hf/HfSiON/p-Si(100) Structure MIS capacitor by Using ECR-Sputtering},
  booktitle = {春季第５７回応用物理学関係連合講演会予稿集},
  year = 2010,
}

@inproceedings{CTT100608337,
  author = {佐野貴洋 and 大見俊一郎},
  title = {ECRスパッタ法による３次元構造上へのHfN/HfONゲートスタック構造の形成},
  booktitle = {秋季第７０回応用物理学会学術講演会予稿集},
  year = 2009,
}

@inproceedings{CTT100608195,
  author = {佐野貴洋 and 大見俊一郎},
  title = {3次元構造上に形成したHfON薄膜の側壁部膜質の評価},
  booktitle = {春季第56回応用物理学関係連合講演会予稿集},
  year = 2009,
}

@inproceedings{CTT100553768,
  author = {須田雄一郎 and 野武幸輝 and 高峻 and 佐野貴洋 and 大見俊一郎},
  title = {RFスパッタ法による3次元構造上へのSiO2薄膜の形成},
  booktitle = {第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集},
  year = 2008,
}

@inproceedings{CTT100553769,
  author = {佐野貴洋 and 仲野雄介 and 大見俊一郎},
  title = {ECRスパッタ法による3次元ゲート構造上へのHfO2薄膜の形成},
  booktitle = {第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集},
  year = 2008,
}

@misc{CTT100725509,
  author = {佐野貴洋},
  title = {ECRスパッタ法によるHfN/HfSiON構造のin-situ形成プロセスと3次元ゲートデバイス応用に関する研究},
  year = 2012,
}



@phdthesis{CTT100725509,
  author = {佐野貴洋},
  title = {ECRスパッタ法によるHfN/HfSiON構造のin-situ形成プロセスと3次元ゲートデバイス応用に関する研究},
  school = {東京工業大学},
  year = 2012,
}