@inproceedings{CTT100553769,
  author = {佐野貴洋 and 仲野雄介 and 大見俊一郎},
  title = {ECRスパッタ法による3次元ゲート構造上へのHfO2薄膜の形成},
  booktitle = {第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集},
  year = 2008,
}

@inproceedings{CTT100553770,
  author = {高峻 and 仲野雄介 and 大見俊一郎},
  title = {Hf混晶化PtSiのシリサイド化条件に関する検討},
  booktitle = {第55回応用物理学関係連合講演会講演予稿集},
  year = 2008,
}

@inproceedings{CTT100553753,
  author = {大見俊一郎 and 高峻 and 仲野雄介},
  title = {Hfとの混晶化によるPtSiの仕事関数変調},
  booktitle = {電子情報通信学会技術研究報告},
  year = 2007,
}

@inproceedings{CTT100553759,
  author = {仲野雄介 and 佐藤雅樹 and 大見俊一郎},
  title = {ECRプラズマプロセスによるHfO2系絶縁膜の極薄膜化の検討},
  booktitle = {電子情報通信学会技術研究報告},
  year = 2007,
}

@inproceedings{CTT100553743,
  author = {仲野雄介 and 大見俊一郎},
  title = {高誘電率HfOxNy絶縁膜のPDAプロセスの検討},
  booktitle = {第68回応用物理学会学術講演会 講演予稿集},
  year = 2007,
}