Journal Paper

• Hiroki Moriwake, Rie Yokoi, Ayako Taguchi, Takafumi Ogawa, Craig A. J. Fisher, Akihide Kuwabara, Yukio Sato, Takao Shimizu, Yosuke Hamasaki, Hiroshi Takashima, Mitsuru Itoh. A computational search for wurtzite-structured ferroelectrics with low coercive voltages, APL Materials, American Institute of Physics, Vol. 8, Issue 12, p. 121102, Dec. 2020.
• Masanori Kodera, Ayako Taguchi, Takao Shimizu, Hiroki Moriwake, Hiroshi Funakubo. Fabrication and characterization of ReO3-type dielectric films, J. Mater. Chem. C, Vol. 8, No. 14, pp. 4680-4684, Mar. 2020.
• Takanori Mimura, Takao Shimizu, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo. Room-temperature deposition of ferroelectric HfO2-based films by the sputtering metho, Appl. Phys. Lett., Vol. 116, pp. 062901-1-5, Feb. 2020.
• Takanori Mimura, Takao Shimizu, Yoshio Katsuya, Osami Sakata, Hiroshi Funakubo. Thickness- and orientation- dependences of Curie temperature in ferroelectric epitaxial Y doped HfO2 films, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 59, pp. SGGB04-1-6, Feb. 2020.
• Atsuo Katagiri, Shota Ogawa, Takao Shimizu, Masaaki Matsushima, Kensuke Akiyama, Hiroshi Uchida, Hiroshi Funakubo. Epitaxial growth of Mg2Si films on (111) Si substrates covered with epitaxial SiC layers, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 59, pp. SF1001-1-4, Jan. 2020.
• Kodai Aoyama, Takao Shimizu, Hideto Kuramochi, Masami Mesuda, Ryo Akiike, Keisuke Ide, Takayoshi Katase, Toshio Kamiya, Yoshisato Kimura, Hiroshi Funakubo. Fabrication and characterization of CaxSr1-x)Si2 films prepared by co-sputtering method, MRS Advances, Jan. 2020.
• Kodai Aoyama, Takao Shimizu, Hideto Kuramochi, Masami Mesuda, Ryo Akiike, Keisuke Ide, Takayoshi Katase, Toshio Kamiya, Yoshisato Kimura, Hiroshi Funakubo. Thermoelectric (BaxSr1–x)Si2 films prepared by sputtering method over the barium solubility limit, Jpn. J. Appl. Phys., vol. 59, p. SFFB02-1-6, Jan. 2020.

Domestic Conference (Not reviewed / Unknown)

• yoshitaka Ehara, Takaaki Nakashima, Daichi Ichinose, Takao Shimizu, ken nishida, Tomoaki Yamada, HIROSHI FUNAKUBO. 面内分極配向したPbTiO3薄膜のa1/a2ドメイン構造の膜厚依存, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• Shinnosuke Yasuoka, Takao Shimizu, 上原雅人, HIROSHI FUNAKUBO. (Al1-xScx)N薄膜の強誘電特性に及ぼす製膜条件の影響, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• 上原雅人, Shinnosuke Yasuoka, Takao Shimizu, 山田浩志, 秋山守人, HIROSHI FUNAKUBO. スパッタリング法で作製したGaNおよびSc添加GaN薄膜の強誘電性評価, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• Masanori Kodera, Takao Shimizu, HIROSHI FUNAKUBO. Bi2SiO5エピタキシャル薄膜の結晶成長に関する検討, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• Akinori Tateyama, Yoshiharu Ito, Takao Shimizu, yuichiro orino, Minoru Kuribayashi Kurosawa, HIROSHI FUNAKUBO. 水熱合成法で作製した(KxNa1-x)NbO３自己分極膜の縦振動を用いた正逆圧電応答の同時評価, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• Keisuke Ishihama, Akinori Tateyama, Takao Shimizu, 佐藤裕介, 山岡和希子, 石田未来, HIROSHI FUNAKUBO. PLD法で作製した正方晶(1-x)(Bi,Na)TiO3-xBaTiO3膜の評価, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• Takanori Mimura, Takao Shimizu, HIROSHI FUNAKUBO. エピタキシャルHfO2基膜を用いた直方晶相安定化の調査, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• Reijiro Shimura, Takanori Mimura, Akinori Tateyama, Takao Shimizu, HIROSHI FUNAKUBO. スパッタリング法によるHfO2基強誘電体厚膜の室温製膜とその電気特性評価, 第67回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2020.
• Yoshiharu Ito, Akinori Tateyama, Takao Shimizu, Minoru Kuribayashi Kurosawa, HIROSHI FUNAKUBO. 水熱合成法を用いたエピタキシャル(Bi, K)TiO3薄膜の合成と評価, 日本セラミックス協会2020年年会, Mar. 2020.
• Masanori Kodera, 田口綾子, Takao Shimizu, 森分博紀, HIROSHI FUNAKUBO. ReO3構造を有する酸フッ化物薄膜の誘電特性, 日本セラミックス協会2020年年会, Mar. 2020.
• Takao Shimizu, Takanori Mimura, HIROSHI FUNAKUBO. HfO2基強誘電体の相安定性と厚膜化, 第4回元素戦略シンポジウム―産学連携研究新展開―, Feb. 2020.
• Masanori Kodera, HIROSHI FUNAKUBO, Takao Shimizu. Bi2SiO5エピタキシャル薄膜の作製と強誘電性, 第4回元素戦略シンポジウム―産学連携研究新展開―, Feb. 2020.
• HIROSHI FUNAKUBO, 伊藤満, Satoshi Wada, Naoki Ohashi, 谷口博基, Takao Shimizu. パワーデバイスやIoT用途の誘電体材料の創出, 第4回元素戦略シンポジウム―産学連携研究新展開―, Feb. 2020.
• Keisuke Ishihama, Akinori Tateyama, Takao Shimizu, 佐藤裕介, 山岡和季子, 石田未来, HIROSHI FUNAKUBO. PLD法で作製した正方晶(1-x)(Bi,Na)TiO3-xBiTiO3膜の作製と評価, 第58回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2020.
• Yuki Tashiro, Takanori Mimura, Takao Shimizu, Yoshio Katsuya, Osami Sakata, Takanori Kiguchi, Takahisa Shiraishi, Toyohiko Konno, HIROSHI FUNAKUBO. HfO2基薄膜のZr, Yドープによる結晶相変化と強誘電相の安定性, 第58回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2020.
• Shinnosuke Yasuoka, Takao Shimizu, 上原雅人, HIROSHI FUNAKUBO. 二元同時スパッタリング法によるAl1-xScxN薄膜の作製と強誘電性評価, 第58回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2020.
• Hidehisa Inoue, Akinori Tateyama, Takao Shimizu, HIROSHI FUNAKUBO. MOCVD法で作製した組成相境界近傍組成を有するエピタキシャルPZT膜の結晶構造および圧電性評価, 第58回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2020.
• 青山航大, 清水荘雄, 倉持豪人, 召田雅実, 秋池良, 井手啓介, 片瀬貴義, 神谷利夫, 舟窪浩. 二元同時スパッタ法で作製したAeSi2 膜(Ae= Ca, Sr, Ba)の構成相と電気特性, 日本セラミックス協会 第58回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2020.

Other Publication

• Hidehisa Inoue, Takao Shimizu, HIROSHI FUNAKUBO. PZT膜の電圧印可による結晶構造変化, 文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業 微細構造解析プラットフォーム 利用報告書 実施機関 国立大学法人 東北大学, 令和元年度, A-19-TU-0003, Sept. 2020.
• Shinnosuke Yasuoka, Takao Shimizu, HIROSHI FUNAKUBO. 窒化物圧電体膜の微構造評価, 文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業 微細構造解析プラットフォーム 利用報告書 実施機関 国立大学法人 東北大学, 令和元年度, A-19-TU-0048, Sept. 2020.
• Takanori Mimura, Reijiro Shimura, HIROSHI FUNAKUBO, Takao Shimizu. HfO2およびZrO2基強誘電体膜の厚膜化と室温合成, 超音波TECHNO, 2020年9-10号, 41-45, Sept. 2020.
• Takao Shimizu, HIROSHI FUNAKUBO. 新規非鉛圧電体の時間分解Ｘ線回折による電場応答の観察, 文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業 微細構造解析プラットフォーム 利用報告書 実施機関 国立研究開発法人物質・材料研究機構, 令和元年度, A-19-NM-0004, Sept. 2020.
• Takao Shimizu, HIROSHI FUNAKUBO. ２相共存PZTにおける電場有機相転移の観察, 文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業 微細構造解析プラットフォーム 利用報告書 実施機関 国立研究開発法人物質・材料研究機構, 令和元年度, A-19-NM-0086, Sept. 2020.

Patent

• HIROSHI FUNAKUBO, TakaoShimizu, Shinnosuke Yasuoka. 強誘電性薄膜、それを用いた電子素子および強誘電性薄膜の製造方法. Patent. Registered. 国立大学法人東京工業大学, 国立研究開発法人産業技術総合研究所. 2020/12/25. 特願2021-567693. 特許第7260863号. 2023/04/11 2023.
• HIROSHI FUNAKUBO, TakaoShimizu, Kodai Aoyama. 珪化物系合金薄膜及びその製造方法. Patent. Published. 国立大学法人東京工業大学, 東ソー株式会社. 2020/09/18. 特願2020-157537. 2022/03/31. 特開2022-051194. 2022.
• HIROSHI FUNAKUBO, TakaoShimizu, Takanori Mimura, Yuki Tashiro. 強誘電性膜の製造方法、強誘電性膜、及びその用途. Patent. Published. 国立大学法人東京工業大学. 2020/04/27. PCT/JP2020/018031. 2020/10/29. WO 2020/218617. 2020.
• HIROSHI FUNAKUBO, TakaoShimizu, Takanori Mimura. 強誘電性薄膜、強誘電性薄膜素子、圧電アクチュエータ、圧電センサ、ヘッドアセンブリ、ヘッドスタックアセンブリ、ハードディスクドライブ、プリンタヘッド、及びインクジェットプリンタ装置. Patent. Registered. 国立大学法人東京工業大学, ＴＤＫ株式会社. 2018/08/31. 特願2018-163377. 2020/03/05. 特開2020-033629. 特許第7061752号. 2022/04/21 2022.
• TakaoShimizu, HIROSHI FUNAKUBO, Kiriha Katayama, Takanori Mimura. 強誘電性薄膜、電子素子及び製造方法. Patent. Registered. 国立大学法人東京工業大学. 2015/08/28. 特願2016-545654. 2017/06/15. 再表2016/031986. 特許第6661197号. 2020/02/14 2020.

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