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濱田昌也 2019年 研究業績一覧 (8件 / 34件)
論文
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Masaya Hamada,
Kentaro Matsuura,
Takuro Sakamoto,
Iriya Muneta,
Takuya Hoshii,
Kuniyuki Kakushima,
Kazuo Tsutsui,
Hitoshi Wakabayashi.
High Hall-Effect Mobility of Large-Area Atomic-Layered Polycrystalline ZrS2 Film using UHV RF Magnetron Sputtering and Sulfurization,
Journal of the Electron Devices Society (J-EDS),
IEEE,
Vol. 7,
No. 1,
pp. 1258-1263,
Dec. 2019.
国際会議発表 (査読有り)
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K. Matsuura,
M. Hamada,
T. Hamada,
H. Tanigawa,
T. Sakamoto,
W. Cao,
K. Parto,
A. Hori,
I. Muneta,
T. Kawanago,
K. Kakushima,
K. Tsutsui,
A. Ogura,
K. Banerjee,
H. Wakabayashi.
Normally-Off Sputtered-MoS2 nMISFETs with MoSi2 Contact by Sulfur Powder Annealing and ALD Al2O3 Gate Dielectric for Chip Level Integration,
Int. Workshop on Juction Technology (IWJT2019),
June 2019.
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Masaya Hamada,
Kentaro Matsuura,
Takuro Sakamoto,
Iriya Muneta,
Takuya Hoshii,
Kuniyuki Kakushima,
Kazuo Tsutsui,
Hitoshi Wakabayashi.
High Hall-Effect Mobility of Atomic-Layered Polycrystalline-ZrS2 Film using Sputtering and Sulfur Annealing,
3rd Electron Devices Technology and Manufactureing Conference (EDTM2019),
Mar. 2019.
国内会議発表 (査読なし・不明)
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濱田 拓也,
堀口 大河,
辰巳 哲也,
冨谷 茂隆,
濱田 昌也,
星井 拓也,
角嶋 邦之,
筒井 一生,
若林 整.
スパッタMoS2膜のCl2プラズマ処理によるシート抵抗低減,
第80回応用物理学会秋季学術講演会,
Sept. 2019.
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濱田 昌也,
松浦 賢太朗,
宗田 伊理也,
星井 拓也,
角嶋 邦之,
筒井 一生,
若林 整.
スパッタ法と硫黄雰囲気アニールで成膜した高いホール効果移動度を持つ層状ZrS2膜,
第80回応用物理学会秋季学術講演会,
Sept. 2019.
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五十嵐 智,
望月 祐輔,
谷川 晴紀,
濱田 昌也,
松浦 賢太朗,
角嶋 邦之,
筒井 一生,
若林 整.
スパッタMoS2膜とTiSi2膜の界面におけるFGアニールによるコンタクト抵抗低減,
第80回応用物理学会秋季学術講演会,
Sept. 2019.
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今井 慎也,
濱田 昌也,
五十嵐 智,
宗田 伊理也,
角嶋 邦之,
筒井 一生,
若林 整.
硫化プロセスにおけるスパッタMoS2膜質向上の重要性,
第80回応用物理学会秋季学術講演会,
Sept. 2019.
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松浦 賢太朗,
濱田 昌也,
坂本 拓朗,
谷川 晴紀,
宗田 伊理也,
石原 聖也,
角嶋 邦之,
筒井 一生,
小椋 厚志,
若林 整.
F.G.アニールによるMoSi2/スパッタMoS2界面コンタクト抵抗低減,
第66回応用物理学会春期学術講演会,
Mar. 2019.
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