国際会議発表 (査読有り)

• Hiroyoshi Tanabe, Moe Sugiyama, Masayuki Shimoda, Atsushi Takahashi. STCC formula including polarization and M3D effects in high-NA EUV lithography, Optical and EUV Nanolithography XXXIX, Proc. SPIE, SPIE, Vol. 13979, Feb. 2026.
• Moe Sugiyama, Masayuki Shimoda, Hiroyoshi Tanabe, Atsushi Takahashi. EUV M3D parameter prediction of curvilinear mask patterns by convolutional neural networks, DTCO and Computational Patterning V, Proc. SPIE, SPIE, Vol. 13980, pp. 139801J-1-6, Feb. 2026.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 朝永陽平, 下田将之, 高橋篤司. ギャップチャネルにおける垂直チャネルの最大混雑度の最小化に関する一検討, VLSI設計技術研究会, 電子情報通信学会技術研究報告 (VLD2025-82), Vol. 125, No. 382, pp. 36-41, Mar. 2026.
• 沼尻晴貴, 下田将之, 高橋篤司. L字型2層ボトルネックチャネル配線アルゴリズムの提案, VLSI設計技術研究会, 電子情報通信学会技術研究報告 (VLD2025-81), Vol. 125, No. 382, pp. 30-35, Mar. 2026.

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