@article{CTT100865308,
  author = {Mina Sato and Mie Tohnishi and Akihiro Matsutani},
  title = {Microfabrication of Si by KOH Etchant Using Etching Mask Amorphized by Ar Ion Beam},
  journal = {Sensors and Materials},
  year = 2022,
}

@inproceedings{CTT100882365,
  author = {松谷晃宏 and 遠西美重 and 藤本美穂 and 松下祥子},
  title = {ポジ型電子線レジストSML1000をマスクとして用いたSF6-RIEによるGeのドライエッチング},
  booktitle = {},
  year = 2022,
}

@inproceedings{CTT100867899,
  author = {遠西 美重 and 佐藤美那 and 松下祥子 and 松谷晃宏},
  title = {ポリイミドシート上へスパッタ成膜したCr/Ge電極の固体ソースH₂Oプラズマを用いた前処理による低抵抗化},
  booktitle = {},
  year = 2022,
}

@inproceedings{CTT100867900,
  author = {佐藤美那 and 遠西美重 and 松谷晃宏},
  title = {Ar＋ビーム照射によるSiアモルファスマスクを利用したKOHエッチングによる単一細胞分離プレートとマイクロ流路の作製},
  booktitle = {},
  year = 2022,
}