電界下Ｘ線回折による正方晶Pb(Zr,Ti)O3膜における圧電応答の膜厚依存性の評価

Publication Information

Title

Japanese:	電界下Ｘ線回折による正方晶Pb(Zr,Ti)O3膜における圧電応答の膜厚依存性の評価
English:

Author

Japanese:	中畑美紀, 岡本一輝, 石濱圭佑, 山田智明, 舟窪浩.
English:	Miki Nakahata, Kazuki Okamoto, Keisuke Ishihama, Tomoaki Yanada, HIROSHI FUNAKUBO.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
English:

Volume, Number, Page

Published date

Mar. 15, 2023

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	第70回応用物理学会春季学術講演会
English:

Conference site

Japanese:	東京
English: