Analysis of Stray Magnetic Field at The Substrate and Effect of Applying External Magnetic Field in Facing Targets Sputtering

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Analysis of Stray Magnetic Field at The Substrate and Effect of Applying External Magnetic Field in Facing Targets Sputtering

著者

和文:	中川茂樹.
英文:	SHIGEKI NAKAGAWA.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Proc. of 4┣D1th┫D1 International Symposium on Sputtering and Plasma Processing(ISSP'97)

巻, 号, ページ

pp. 251-256

出版年月

1997年

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

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