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論文・著書情報


タイトル
和文:極微光デバイス製作のための反応性イオンビームエッチングに関する研究 
英文:A Study of Reactive Ion Beam Etching Process for Optoelectronic Micro-Devices 
著者
和文: 松谷晃宏.  
英文: akihiro matsutani.  
種別
種別:学位論文(博士) 
国名:Japan 
言語 English 
学位授与組織 Tokyo Institute of Technology 
報告番号 乙第3270号 
学位授与日 1999/02/28 
審査員  
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