English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京科学大学
東京科学大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
Yield-aware mask assignment using positive semidefinite relaxation in LELECUT triple patterning
著者
和文:
小平 行秀
, Chikaaki Kodama,
松井 知己
,
高橋 篤司
, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka.
英文:
Yukihide Kohira
, Chikaaki Kodama,
Tomomi Matsui
,
Atsushi Takahashi
, Shigeki Nojima, Satoshi Tanaka.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
Proc. SPIE 9427, Design-Process-Technology Co-optimization for Manufacturability IX, 94270B
巻, 号, ページ
1-9
出版年月
2015年3月26日
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
開催地
和文:
英文:
ファイル
DOI
http://dx.doi.org/10.1117/12.2085285
©2007
Institute of Science Tokyo All rights reserved.