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論文・著書情報


タイトル
和文:Si表面原子レベル平坦化技術およびHf系MONOS型不揮発性メモリへの応用に関する研究 
英文: 
著者
和文: 工藤聡也.  
英文: Sohya Kudoh.  
種別
種別:学位論文(博士)要約 
国名:日本 
言語 Japanese 
学位授与組織 東京工業大学 
報告番号 甲第10862号 
学位授与日 2018/03/26 
審査員 大見 俊一郎, 宗片 比呂夫, 筒井 一生, 渡辺 正裕, 飯野 裕明, 浅野 種正.  
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