RTAの合金化プロセスにおける不純物形成の抑制と高品質な熱電ホイスラー合金Fe2TiAl薄膜の作製

論文・著書情報

タイトル

和文:	RTAの合金化プロセスにおける不純物形成の抑制と高品質な熱電ホイスラー合金Fe2TiAl薄膜の作製
英文:	Suppression of impurity formation in the alloying process using RTA to fabricate high-quality thermoelectric Heusler alloy Fe2TiAl thin films

著者

和文:	飯田大介, 熊谷洋志, 高村陽太, 中川茂樹.
英文:	D. Iida, H. Kumagai, Y. Takamura, S. Nakagawa.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

24p-P05-28

出版年月

2024年3月24日

出版者

和文:
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会議名称

和文:	2024年第71回応用物理学会春期学術講演会
英文:	The 71st JSAP Spring Meeting 2024

開催地

和文:	東京都世田谷区
英文:	Setagaya, Tokyo

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