349 mm atmospheric linear type plasma source for 12-inch semiconductor surface processing

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	349 mm atmospheric linear type plasma source for 12-inch semiconductor surface processing

著者

和文:	古谷淳之介, 大澤泰樹, 八井田朱音, 西山伸彦, 沖野晃俊.
英文:	Junnosuke Furuya, Taiki Osawa, Akane Yaida, Nobuhiko Nishiyama, AKITOSHI OKINO.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2024年10月2日

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	The 77th Annual Gaseous Electronics Conference

開催地

和文:	サンディエゴ
英文: