国際会議発表 (査読有り)

• Junnosuke Furuya, Taiki Osawa, Akane Yaida, Nobuhiko Nishiyama, AKITOSHI OKINO. 349 mm atmospheric linear type plasma source for 12-inch semiconductor surface processing, The 77th Annual Gaseous Electronics Conference, Oct. 2024.

国内会議発表 (査読有り)

• 日原弘喜, 古谷淳之介, 八井田朱音, 沖野晃俊, 西山伸彦. 異種材料集積光回路作製に向けたパーティクルフリーリニア型プラズマによるシリコンウェハの処理, 2024年第71回応用物理学会春季学術講演, Mar. 2024.
• 古谷淳之介, 日原弘喜, 八井田朱音, 浦井一, 上本道久, 沖野晃俊. 生体材料を均一処理するためのリニア型マルチガスプラズマ源の開発, 生体医歯工学共同研究拠点成果報告会, Mar. 2024.

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