High quality PVD-MoS2 film on plasma-ALD-SiO2 underlaying material for CFET integration

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	High quality PVD-MoS2 film on plasma-ALD-SiO2 underlaying material for CFET integration

著者

和文:	松永尚樹, 今井慎也, 白倉孝典, 筒井一生, 角嶋邦之, 若林整.
英文:	Naoki Matsunaga, Shinya Imai, Takanori Shirokura, Kazuo Tsutsui, Kuniyuki Kakushima, Hitoshi Wakabayashi.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2024年3月7日

出版者

和文:
英文:	IEEE

会議名称

和文:
英文:	2024 8th IEEE Electron Devices Technology & Manufacturing Conference (EDTM)

開催地

和文:	Bangalore
英文:

DOI