Improvement of MoS2 Film Quality using Low-Particle-Flux Sputtering at Low-Substrate Temperature for Future 3D-Stacked Field-Effect Transistors

論文・著書情報

タイトル

和文:	将来の三次元積層型電界効果トランジスタに向けた低基板温度及び低粒子フラックススパッタリングによるMoS2膜質向上
英文:	Improvement of MoS2 Film Quality using Low-Particle-Flux Sputtering at Low-Substrate Temperature for Future 3D-Stacked Field-Effect Transistors

著者

和文:	今井慎也.
英文:	Shinya Imai.

種別

種別:	学位論文(博士)審査の要旨
国名:	Japan

言語

English

学位授与組織

Institute of Science Tokyo

報告番号

甲第274号

学位授与日

2025/03/26

審査員

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