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三村和仙 研究者情報

姓 三村  Mimura 
名 和仙  Takanori 
状態 本学を転出・卒業
学位論文 A study on stabilization of ferroelectric phase in epitaxial HfO2 - based films,  Exam Summary,  Doctor (Engineering),  Tokyo Institute of Technology,  2020/03/26,   
A study on stabilization of ferroelectric phase in epitaxial HfO2 - based films,  Thesis,  Doctor (Engineering),  Tokyo Institute of Technology,  2020/03/26, 
エピタキシャル成長したHfO2基薄膜を用いた強誘電相出現に関する研究,  論文要旨,  博士(工学),  東京工業大学,  2020/03/26,   
エピタキシャル成長したHfO2基薄膜を用いた強誘電相出現に関する研究,  要約,  博士(工学),  東京工業大学,  2020/03/26,   

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