論文

• Akihiro Funaki, Yohei Araki, Takahito Nishimura, Akira Yamada. Fabrication of In2S3 and In–Ga–S Thin Films via Atmosphere-Controlled Fine-Channel Mist Chemical Vapor Deposition, Phys. Status Solidi RRL, Sept. 2024.

国際会議発表 (査読有り)

• Akihiro Funaki, Yohei Araki, Takahito Nishimura, Akira Yamada. Deposition of (In, Ga)2S3 thin film via mist CVD method under a controlled atmosphere, The 35th International Photovoltaic Science and Engineering Conference, Nov. 2024.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 船木 顕広, 荒木 耀平, 西村 昂人, 山田 明. ミストCVD法を用いたZn(O, S)薄膜の作製および組成制御, 第72回春季応用物理学会学術講演会, Mar. 2025.
• 荒木 耀平, 船木 顕広, 西村 昂人, 山田 明. ミストCVD法を用いた(In,Ga)2S3薄膜の作製, 第85回応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2024.
• 荒木 耀平, 船木 顕広, 古牧 郁弥, 西村 昂人, 山田 明. ミストCVD法を用いたIn2S3薄膜の作製, 第71回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2024.

[ BibTeX 形式で保存 ]    [ 論文・著書をCSV形式で保存 ]    [ 特許をCSV形式で保存 ]