国内会議発表 (査読なし・不明)

• 大賀 友瑛, 岩佐 健, 山田 志織, 金子 智, 松田 晃史, 吉本 護. 酸化物半導体薄膜の成長および特性に及ぼすポリマー基板表面における原子レベルパターンの影響, 第66回 応用物理学会春季学術講演会, Feb. 2019.  公式リンク  
  
• 中西 昴, 岩佐 健, 金子 智, 木村 好里, 松田 晃史, 吉本 護. 酸化バナジウム系非晶質薄膜の一軸加圧下熱処理と電気特性評価, 第66回 応用物理学会春季学術講演会, Feb. 2019.  公式リンク  
  
• 岩佐 健, 大賀 友瑛, 土嶺信男, 金子 智, 松田 晃史, 吉本 護. 周期的ナノパターン表面を有するポリマー基板上への酸化物半導体薄膜の作製と電気特性評価, 2018年 第79回 応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2018.  公式リンク  
  
• 山田 志織, 岩佐 健, 大賀 友瑛, 金子 智, 松田 晃史, 吉本 護. 0.3 nm高さの直線状原子ステップを有するPMMA及びポリイミドシートにおける光化学反応および成膜による表面特性の制御, 2018年 第79回 応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2018.  公式リンク  
  
• 中西 昴, 岩佐 健, 金子 智, 木村 好里, 松田 晃史, 吉本 護. PLD法による酸化バナジウム系アモルファス薄膜の作製と熱電特性評価, 2018年 第79回 応用物理学会秋季学術講演会, Sept. 2018.  公式リンク  
  
• 岩佐健, 木下太一郎, 中村稀星, 金子 智, 松田 晃史, 吉本 護. 原子ステップ型超平坦ポリマー基板上でのフレキシブル酸化物p/n薄膜の作製と特性評価, 2018年 第65回 応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2018.  公式リンク  
  
• 木下 太一郎, 岩佐 健, 金子 智, 松田 晃史, 吉本 護. 原子ステップ型ポリマー基板上への自己組織化モールドを用いた周期的ナノ構造の熱ナノインプリント形成, 第78回 応用物理学会秋季学術講演会, Aug. 2017.  公式リンク  
  
• 岩佐 健, 木下 太一郎, 中村 稀星, 金子 智, 松田 晃史, 吉本 護. 原子ステップ型ポリマー基板を用いた有機・無機ハイブリッド構造の作製, 第78回 応用物理学会秋季学術講演会, Aug. 2017.  公式リンク  
  

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