国際会議発表 (査読なし・不明)

• Hiroaki Imamura, Taichi Inamura, Kuniyuki KAKUSHIMA, Yoshinori Kataoka, Akira Nishiyama, Nobuyuki Sugii, Hitoshi Wakabayashi, KAZUO TSUTSUI, Kenji Natori, HIROSHI IWAI. Characterization of Thin NiSi2 Films by Stacked Silicidation Sputtering Process with Kr Gas, The Workshop on Future Trend of Nanoelectronics:WIMNACT 39, 2014.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 今村浩章, 角嶋邦之, 片岡好則, 西山彰, 杉井信之, 若林整, 筒井一生, 名取研二, 岩井洋. 積層シリサイド化スパッタプロセスにより作成したNiシリサイドショットキーダイオードの評価, 第61回応用物理学会春季学術講演会, 2014.
• 今村浩章, 稲村太一, 角嶋邦之, 片岡好則, 西山彰, 杉井信之, 若林整, 筒井一生, 名取研二, 岩井洋. Krガスを用いた積層シリサイド化スパッタプロセスにより形成したNiSi2の薄膜評価, 第74回応用物理学会秋季学術講演会, 2013.

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