国際会議発表 (査読なし・不明)

• Nachi Chaya, Koji Hirai, Shinnosuke Yasuoka, Kazuki Okamoto, Wakiko Yamaoka, Yukari Inoue, Hiroshi Funakubo. No heating deposition of CeO2-HfO2 ferroelectric thick films by sputtering method, MNC 2023 (36th International Microprocesses and Nanotechnology Conference), Nov. 2023.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 下野園航平, 前川芳輝, 茶谷那知, 岡本一輝, 山岡和希子, 川島康, 井上ゆか梨, 舟窪浩. CeO2-HfO2-ZrO2薄膜の結晶構造と強誘電性の評価, 第71回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2024.
• 下野園航平, 前川芳輝, 茶谷那知, 岡本一輝, 井上ゆか梨, 舟窪浩. PLD法によるCeO2-HfO2-ZrO2薄膜の作製と評価, 第62回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2024.
• 舟窪浩, 茶谷那知, 平井浩司, 安岡慎之介, 岡本一輝, 山岡和希子, 井上ゆか梨. スパッタリング法によるHfO2-CeO2強誘電体薄膜のYSZ基板上への非加熱合成, 第62回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2024.
• 茶谷那知, 平井浩司, 安岡慎之介, 岡本一輝, 山岡和希子, 井上ゆか梨, 舟窪浩. スパッタリング法によるHfO2-CeO2強誘電体厚膜の非加熱合成, 第70回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2023.
• 茶谷那知, 平井浩司, 安岡慎之介, 岡本一輝, 舟窪浩. フレキシブルデバイスに向けたHfO2基強誘電体厚膜の室温合成と圧電性の評価, 第61回セラミックス基礎科学討論会, Jan. 2023.

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