|
大見俊一郎 2013年 研究業績一覧 (2件 / 298件)
論文
-
前田 康貴,
大見俊一郎,
後藤 哲也,
大見 忠弘.
窒素添加LaB₆薄膜のデバイス応用に関する検討 (シリコン材料・デバイス),
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報,
一般社団法人電子情報通信学会,
Vol. 113,
No. 247,
pp. 27-31,
Oct. 2013.
-
Han, H.S.,
Han, D.H.,
Shun-ichiro OHMI.
Potential of MISFET with HfN gate dielectric formed by ECR plasma sputtering,
Electronics Letters,
Vol. 49,
No. 7,
pp. 493-495,
2013.
[ BibTeX 形式で保存 ]
[ 論文・著書をCSV形式で保存
]
[ 特許をCSV形式で保存
]
|