論文

• Akihiro Matsutani, Mina Sato, Miho Fujimoto, Mie Tohnishi. CO2/SF6-based Deep Reactive Ion Etching of Si, Vol. 38, No. 3, pp. 1193-1205, Mar. 2026.  公式リンク  
  

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 松谷晃宏. 酵母細胞で形成されたコーヒーリングによる回折光の分光測定, 2026年第73回応用物理学会春季学術講演会, 15p-PB2-34, Mar. 2026.
• 松谷晃宏. ヴィオラ弦の調弦後の時間–張力・周波数の関係の測定と切断部の光弾性観察, 2026年第73回応用物理学会春季学術講演会, 15p-PB2-35, Mar. 2026.
• 遠西 美重, 佐藤 美那, 松谷 晃宏. CO2/SF6 Deep-RIEによるSiの垂直微細加工, 第73回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2026.
• 松谷晃宏. 東京科学大学リサーチインフラ・マネジメント機構における技術職員の人材育成 —マイクロプロセス部門の事例—, 2026年第73回応用物理学会春季学術講演会, 16p-M_B07-5, 2026.

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