論文

• Mina Sato, Mie Tohnishi, Miho Fujimoto, Akihiro Matsutani. Sub-micrometer-sized Patterning of Photoresist by Electron Beam Projection Lithography Using Tabletop Scanning Electron Microscopy System and Stencil Masks, Sensors and Materials, Vol. 37, No. 3, pp. 977-985, Mar. 2025.

国内会議発表 (査読なし・不明)

• 佐藤美那, 遠西美重, 藤本美穂, 松谷晃宏. 卓上SEM とステンシルマスクを用いたEPL 法の開発, 第72回応用物理学会春季学術講演会, Mar. 2025.
• 小澤 亮太, 水書 稔治,, 津久井遼, 山本広大, 藤本美穂, 佐藤美那, 遠西美重, 松谷晃宏. 複屈折結 晶を利用した位相変位干渉計素子の試作と光学的特性, 2024 年衝撃波シンポジウム, 1B4-2, Mar. 2025.

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