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特許情報


発明の名称
半導体装置及びその製造方法 
発明者
石原宏, スシル　クマル　シン, 丸山　研二, 近藤　正雄.  
種別
特許 
状態
公開 
出願人
国立大学法人東京工業大学, 富士通株式会社.  
出願日
2006/09/19
出願番号
特願2006-253569
公開日
2008/04/03
公開番号
特開2008-078248

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