English
Home
各種検索
研究業績検索
論文・著書検索
( 詳細検索 )
特許検索
( 詳細検索 )
研究ハイライト検索
( 詳細検索 )
研究者検索
組織・担当から絞り込む
サポート
よくあるご質問(FAQ)
T2R2登録申請
学位論文登録について
組織単位データ出力について
(学内限定)
サポート・問合せ
T2R2について
T2R2とは?
運用指針
リーフレット
本文ファイルの公開について
関連リンク
東京工業大学
東京工業大学STARサーチ
国立情報学研究所(学術機関リポジトリ構築連携支援事業)
Home
>
ヘルプ
特許情報
発明の名称
チアジアゾール構造含有高分子の製造方法、チアジアゾール構造含有高分子、並びにそれを用いた電荷輸送材料及び有機電子デバイス
発明者
山本隆一
, 安田 琢麿, 酒井 良正, 荒牧 晋司.
種別
特許
状態
公開
出願人
国立大学法人東京工業大学, 三菱化学株式会社.
出願日
2010/01/15
出願番号
特願2010-006889
公開日
2010/07/08
公開番号
特開2010-150551
©2007
Tokyo Institute of Technology All rights reserved.