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特許情報


発明の名称
部分アシル化シクロデキストリンの製造方法および部分アシル化ロタキサンの製造方法 
発明者
高田十志和, 荒井　隆行.  
種別
特許 
状態
公開 
出願人
国立大学法人東京工業大学, リンテック株式会社.  
出願日
2007/08/08
出願番号
特願2007-207014
公開日
2009/02/26
公開番号
特開2009-040873

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