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特許情報


発明の名称
修飾擬ポリロタキサンおよび修飾ポリロタキサンの製造方法 
発明者
高田十志和, 高島　智行, 荒井　隆行.  
種別
特許 
状態
登録 
出願人
国立大学法人東京工業大学, リンテック株式会社.  
出願日
2008/11/12
出願番号
特願2008-290132
公開日
2010/05/27
公開番号
特開2010-116473
登録日
2014/07/04
登録番号
特許第5569893号
備考
権利存続

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