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特許情報


発明の名称
層構造のシリケートを製造するための方法 
発明者
辰巳敬, イルマズ，ビルジ, ミュラー，ウルリヒ, プファッフ，マイケ, ギース，ヘルマン, シャオ，フォン－ショウ, デ　フォス，ディルク, パオ，シンホー, チャン，ウェイピン.  
種別
特許 
状態
登録 
出願人
国立大学法人東京工業大学, BASF SE.  
出願日
2010/03/03
出願番号
特願2011-552439
公開日
2012/08/30
公開番号
特開（特表）2012-519640
登録日
2014/07/04
登録番号
特許第5570840号
備考
審査待ち

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