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特許情報


発明の名称
パターン形成方法、及びプラズマ処理方法 
発明者
福島孝典, 庄子良晃, 梶谷孝, 荻原響, 大和田　伸, 山口　達也　, 浅子　隆一.  
種別
特許 
状態
公開 
出願人
国立大学法人東京工業大学, 東京エレクトロン株式会社.  
出願日
2022/06/27
出願番号
PCT/JP2022/025607
公開日
2023/01/12
公開番号
WO 2023/282114

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