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特許情報


発明の名称
エッチングマスクパターンの製造方法及びエッチングマスクパターン形成用樹脂組成物 
発明者
早川晃鏡, 前川伸祐, 上原綾太, 瀬下　武広　, 太宰　尚宏　.  
種別
特許 
状態
公開 
出願人
国立大学法人東京科学大学, 東京応化工業株式会社.  
出願日
2024/04/17
出願番号
特願2024-067050
公開日
2024/11/08
公開番号
特開2024-159590

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