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特許情報


発明の名称
エッチングマスクパターン形成用樹脂組成物、及びエッチングマスクパターンの製造方法 
発明者
早川晃鏡, 前川伸祐, 上原綾太, 瀬下　武広　, 太宰　尚宏.  
種別
特許 
状態
公開 
出願人
国立大学法人東京科学大学, 東京応化工業株式会社.  
出願日
2023/04/27
出願番号
特願2023-073814
公開日
2024/11/08
公開番号
特開2024-158543

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