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特許情報


発明の名称
複合酸化物パターンの形成方法 
発明者
東正樹, 重松圭, 吉川 浩太, 中山創, 金子 智 , 安井 学, 黒内 正仁.  
種別
特許 
状態
公開 
出願人
国立大学法人東京科学大学, 地方独立行政法人神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC), 住友化学株式会社.  
出願日
2025/03/03
出願番号
PCT/JP2025/007415
公開日
2025/09/11
公開番号
WO 2025/187606

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