GdO<sub>x</sub>/Si界面組成遷移層の化学結合状態の深さ方向分布の熱処理依存性

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Title

Japanese:	GdO_x/Si界面組成遷移層の化学結合状態の深さ方向分布の熱処理依存性
English:

Author

Japanese:	吉田徹史, 岡本英介, 品川盛治, 野平博司, 酒井渉, 中島薫, 鈴木基史, 木村健二, 吉田丈治, 大見俊一郎, 岩井洋, 池永英司, 高田恭孝, 辛埴, 小林啓介, 服部健雄.
English:	吉田徹史, 岡本英介, 品川盛治, 野平博司, 酒井渉, 中島薫, 鈴木基史, 木村健二, 吉田丈治, 大見俊一郎, 岩井洋, 池永英司, 高田恭孝, 辛埴, 小林啓介, 服部健雄.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:	第65回応用物理学会学術講演会
English:

Volume, Number, Page

Vol. 2 pp. 688

Published date

2004

Publisher

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Conference name

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