Ge上極薄膜Siのプラズマ酸化によるSiO2/Ge MISキャパシタの作製と界面特性評価

Publication Information

Title

Japanese:	Ge上極薄膜Siのプラズマ酸化によるSiO2/Ge MISキャパシタの作製と界面特性評価
English:

Author

Japanese:	熊谷寛, 七条真人, 石川寛人, 星井拓也, 菅原聡, 高木信一.
English:	熊谷寛, 七条真人, 石川寛人, 星井拓也, 菅原聡, 高木信一.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
English:

Volume, Number, Page

pp. 177-182

Published date

2006

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	応用物理学会薄膜・表面物理分科会シリコンテクノロジー分科会共催特別研究会「ゲートスタック研究会―材料・プロセス・評価の物理―」第11回研究会, 三島,
English:

Conference site

Japanese:
English: