HfNのECRプラズマ酸化により形成したHfOxNyのPDAプロセスの検討

Publication Information

Title

Japanese:	HfNのECRプラズマ酸化により形成したHfOxNyのPDAプロセスの検討
English:

Author

Japanese:	大見俊一郎.
English:	Shun-ichiro OHMI.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:	International Symposium on Semiconductor Manufacturing 2007 日本特別報告会 Conf. Proc.
English:

Volume, Number, Page

pp. 25-33

Published date

Nov. 2007

Publisher

Japanese:	ISSM日本事務局
English:

Conference name

Japanese:	International Symposium on Semiconductor Manufacturing 2007 日本特別報告会
English:

Conference site

Japanese:	ベルサーレ九段
English: