電子ビーム露光によるCaF<sub>2</sub>無機レジスト70nm周期パターニング

Publication Information

Title

Japanese:	電子ビーム露光によるCaF₂無機レジスト70nm周期パターニング
English:	Seventy nm pitch CaF₂ inorganic resist pattern by electron beam exposure

Author

Japanese:	服部哲也, 本郷廣生, 宮本恭幸, 古屋一仁, 松沼健司, 渡辺正裕, 浅田雅洋.
English:	T.Hattori, H.Hongo, Y.Miyamoto, KAZUHITO FURUYA, 松沼健司, M.Watanabe, M.Asada.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
English:

Volume, Number, Page

26a-SZW-27 2 565

Published date

Mar. 26, 1996

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	第43回応用物理学会関係連合講演会
English:	Nat. Conv. Rec. of The Japan Soc. of Appl. Phys.

Conference site

Japanese:	埼玉県
English:	Saitama