ラジカル酸素アニールによる高品質トンネル障壁を有するCoFe/MgO/SiおよびCoFe/AlOx/Siコンタクトを用いたスピン蓄積の評価

Publication Information

Title

Japanese:	ラジカル酸素アニールによる高品質トンネル障壁を有するCoFe/MgO/SiおよびCoFe/AlOx/Siコンタクトを用いたスピン蓄積の評価
English:	Spin accumulation in Si channels using CoFe/MgO/Si and CoFe/AlOx/Si tunnel contacts with the high-quality tunnel barriers prepared by radical-oxygen annealing

Author

Japanese:	悪七泰樹, 高村陽太, 周藤悠介, 菅原聡.
English:	Taiju Akushichi, Yota Takamura, Yusuke Shuto, SATOSHI SUGAHARA.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
English:

Volume, Number, Page

4aD-2

Published date

Sept. 4, 2014

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	第38回日本磁気学会学術講演会
English:	the 38th Annual Conference on MAGNETICS in Japan

Conference site

Japanese:	神奈川県横浜市
English:	Yokohama