ガス加熱トライオードプラズマCVD法による低温成長a-Si:Hの高品質化

Publication Information

Title

Japanese:	ガス加熱トライオードプラズマCVD法による低温成長a-Si:Hの高品質化
English:

Author

Japanese:	新倉ちさと, Sichanugrist Porponth, 宮島晋介, 市川幸美, 小長井誠.
English:	新倉ちさと, Sichanugrist Porponth, Shinsuke Miyajima, 市川幸美, MAKOTO KONAGAI.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
English:

Volume, Number, Page

Published date

Mar. 19, 2016

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	第63回応用物理学会春季学術講演会
English:

Conference site

Japanese:	東京
English: