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Publication Information


Title
Japanese:真空紫外光による光加工技術の新展開 
English: 
Author
Japanese: 山本貴富喜.  
English: Takatoki Yamamoto.  
Language Japanese 
Journal/Book name
Japanese: 
English: 
Volume, Number, Page     No. 10    p. 123
Published date Sept. 30, 2016 
Publisher
Japanese:OPTRONICS 
English:OPTRONICS 
Conference name
Japanese: 
English: 
Conference site
Japanese: 
English: 
Abstract MEMSや半導体集積回路など，最先端デバイスの製造プロセスでは，フォトリソグラフィーやレーザーアブレーションに代表される，様々な光加工プロセスが中心的な役割を担ってきた。これらの加工法における最小加工サイズは光の回折限界の制約を受けるため，光源の短波長化がデバイスの小型化や集積化，すなわち高性能化のキーとなることから，光源開発が1つの大きな技術課題となってきた。過去数十年に渡る短波長光源開発の歴史の中で，水銀ランプのg線やi線の活用に始まり，現在は波長157nmのF2レーザーを利用したリソグラフィー技術が実用化されるに至っているが，これより短い波長の光である極端紫外(EUV)の開発は難航を極めており，大きな技術課題となっている。このような，主に光の波としての性質が重要となる微細化の流れの一方で，波動性を問題としない，所謂，光の粒子性を主に用いた新しい加工技術も登場しつつある。例えば，波長172nmのXeエキシマ光を利用した真空紫外光による光化学的なクリーニング手法が，広くフラットパネルディスプレイのクリーニングプロセスに導入されて久しい。主要な光源として用いられている誘電体バリア方式のランプは，インコヒーレントな光源であり，主に光のエネルギーのみを活用した方法と言えよう。我々は，このような新しい光加工技術の開発に，基礎から応用まで一気通貫に取り組んでいる。本稿では，我々の取り組みの中から，真空紫外光による光表面処理，光接着，印刷プロセスと融合した印刷可能なガラス製ナノ構造への応用などを紹介することで，光の新たな利活用の一旦をご紹介したい。

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