エピタキシャルHfO2基膜における強誘電相の安定性 -RE2O3-HfO2 vs ZrO2-HfO2-

Publication Information

Title

Japanese:	エピタキシャルHfO2基膜における強誘電相の安定性 -RE2O3-HfO2 vs ZrO2-HfO2-
English:

Author

Japanese:	三村和仙, 片山きりは, 清水荘雄, 木口賢紀, 赤間章裕, 今野豊彦, 坂田修身, 舟窪浩.
English:	Takanori Mimura, 片山きりは, Takao Shimizu, Takanori Kiguchi, 赤間章裕, Toyohiko Konno, Osami Sakata, HIROSHI FUNAKUBO.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
English:

Volume, Number, Page

Published date

Mar. 14, 2017

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	第64回応用物理学会春季学術講演会
English:

Conference site

Japanese:	横浜市
English: