アモルファスGa<sub>2</sub>O<sub>3</sub>薄膜のエキシマレーザー照射による室温固相エピタキシーにおける作製因子の検討

Publication Information

Title

Japanese:	アモルファスGa₂O₃薄膜のエキシマレーザー照射による室温固相エピタキシーにおける作製因子の検討
English:	Examination of film formation factor of solid phase epitaxy in room temperature of amorphous Ga₂O₃ by excimer laser annealing

Author

Japanese:	森田公之, 大賀友瑛, 土嶺信男, 金子智, 松田晃史, 吉本護.
English:	Hiroyuki Morita, Tomoaki Oga, Nobuo Tsuchimine, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, MAMORU YOSHIMOTO.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
English:

Volume, Number, Page

Published date

Sept. 5, 2018

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会
English:	The 79th JSAP Autumn Meeting, 2018

Conference site

Japanese:	名古屋
English:	Nagoya

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