CMOSプロセス加工Siプラットフォーム上ハイブリッド光デバイスに向けたInP/Si直接接合へのSi側ダミーパターンの影響

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Title

Japanese:	CMOSプロセス加工Siプラットフォーム上ハイブリッド光デバイスに向けたInP/Si直接接合へのSi側ダミーパターンの影響
English:

Author

Japanese:	御手洗拓矢, 稲村美希, 阿部智之, 守田憲司, 雨宮智宏, 西山伸彦.
English:	Takuya Mitarai, 稲村美希, 阿部智之, 守田憲司, Tomohiro Amemiya, Nobuhiko Nishiyama.

Language

Japanese

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Japanese:
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Volume, Number, Page

Published date

Sept. 2019

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	第80回応用物理学会秋季学術講演会
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