光電子ホログラフィー法によるシリコン中にドープされた不純物の三次元原子配列構造の解析

Publication Information

Title

Japanese:	光電子ホログラフィー法によるシリコン中にドープされた不純物の三次元原子配列構造の解析
English:

Author

Japanese:	筒井一生, 松下智裕, 室隆桂之, 森川良忠, 名取鼓太郎, 小川達博, 星井拓也, 角嶋邦之, 若林整, 林好一, 松井文彦, 木下豊彦.
English:	KAZUO TSUTSUI, 松下智裕, 室隆桂之, 森川良忠, Kotaro Natori, Tatsuhiro Ogawa, Takuya Hoshii, Kuniyuki KAKUSHIMA, Hitoshi Wakabayashi, 林好一, 松井文彦, Toyohiko Kinoshita.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
English:

Volume, Number, Page

Published date

Feb. 28, 2019

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第216回研究集会
English:

Conference site

Japanese:	大阪
English: