界面に適合するAMR法を用いた気液二相流計算手法による界面活性剤の濃度差マランゴニ効果を考慮した液膜形成シミュレーション

Publication Information

Title

Japanese:	界面に適合するAMR法を用いた気液二相流計算手法による界面活性剤の濃度差マランゴニ効果を考慮した液膜形成シミュレーション
English:	A Simulation of Thin Liquid Film Forming with surfactants by Gas-Liquid Two-Phase Flow Solver with Interface-Adapted AMR method

Author

Japanese:	松下真太郎, 青木尊之.
English:	Shintaro Matsushita, TAKAYUKI AOKI.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
English:	混相流シンポジウム2020講演論文集

Volume, Number, Page

Published date

Aug. 23, 2020

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	混相流シンポジウム2020
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Conference site

Japanese:
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